溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响 |
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引用本文: | 高丽丽,李淞菲,曹天福,张雪.溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响[J].吉林大学学报(理学版),2016,54(1):138-142. |
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作者姓名: | 高丽丽 李淞菲 曹天福 张雪 |
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作者单位: | 北华大学 物理学院, 吉林 吉林 132013 |
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摘 要: | 以ZnO陶瓷为靶材,高纯N_2和Ar为溅射气体,利用磁控溅射生长系统制备N掺杂ZnO薄膜.通过改变溅射气氛中N_2的流量,研究ZnO薄膜光学性能的变化规律,其中N_2流量分别控制为0,8,20,32mL/min.结果表明:当溅射气氛中N_2流量增加时,ZnO∶N薄膜的光学带隙发生改变,吸收边红移;在室温光致发光光谱中,紫外激子发射峰与可见光区发射峰强度的比值变小,紫外激子发射峰位红移;在Raman光谱中,位于272,642cm-1附近的振动模增强.
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关 键 词: | ZnO∶N薄膜 溅射气氛 光学性能 |
收稿时间: | 2015-04-10 |
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