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溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响
引用本文:高丽丽,李淞菲,曹天福,张雪.溅射气氛对ZnO∶N薄膜光学性能的影响[J].吉林大学学报(理学版),2016,54(1):138-142.
作者姓名:高丽丽  李淞菲  曹天福  张雪
作者单位:北华大学 物理学院, 吉林 吉林 132013
摘    要:以ZnO陶瓷为靶材,高纯N_2和Ar为溅射气体,利用磁控溅射生长系统制备N掺杂ZnO薄膜.通过改变溅射气氛中N_2的流量,研究ZnO薄膜光学性能的变化规律,其中N_2流量分别控制为0,8,20,32mL/min.结果表明:当溅射气氛中N_2流量增加时,ZnO∶N薄膜的光学带隙发生改变,吸收边红移;在室温光致发光光谱中,紫外激子发射峰与可见光区发射峰强度的比值变小,紫外激子发射峰位红移;在Raman光谱中,位于272,642cm-1附近的振动模增强.

关 键 词:ZnO∶N薄膜  溅射气氛  光学性能  
收稿时间:2015-04-10
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