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磁控溅射ZnO薄膜的三阶非线性光学特性
作者姓名:张继德  刘成有  辛春雨  于卓  董振江
作者单位:1. 白城师范学院 物理与电子信息学院, 吉林 白城 137000; 2. 通化师范学院 物理学院, 吉林 通化 134001
摘    要:采用磁控溅射技术在SiO_2衬底上制备ZnO薄膜,并通过X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪对薄膜的晶体结构、表面形貌、带隙宽度和光致发光性质进行测试表征,结合飞秒激光(波长为800nm,脉宽50fs)和Z扫描方法测量该薄膜的三阶非线性光学特性.结果表明,其三阶非线性折射率和非线性吸收系数均为正值,分别为3.50×10-18 m2/W和2.88×10-11 m/W.

关 键 词:三阶非线性光学  磁控溅射   氧化锌薄膜   Z扫描  
收稿时间:2016-04-23
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