铁氰化镍膜的分子组成及电化学行为 |
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作者姓名: | 王政萍 蒋勉 |
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摘 要: | 研究了沉积在玻碳(GC)基体上的铁氰化镍(NiHCF)膜的电化学行为。详细分析了制备条件对膜的循环伏安(CV)行为的影响,结合能量色散X射线(EDX)分析技术,提出膜是可溶组分K2NiFe(CN)6和不可溶组分Ni2Fe(CN)6共存的混合态,精确控制沉积条件,可分别获得不同组分占优势的膜。在此基础上研究了两组分的电化学特征,初步探讨了不可溶组分的电化学反应机制,得到描述其电极反应的方程式为:(K
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关 键 词: | 普鲁士蓝 铁氰化镍 电化学 膜 化学沉积法 |
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