| 放电电压对直流热阴极制备金刚石厚膜的影响 |
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| 引用本文： | 陈庆东,杨传径,毛爱霞,姜志刚,刘才龙.放电电压对直流热阴极制备金刚石厚膜的影响[J].河南大学学报(自然科学版),2010,40(3). |
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| 作者姓名： | 陈庆东 杨传径 毛爱霞 姜志刚 刘才龙 |
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| 作者单位： | 1. 河南科技大学,理学院,河南,洛阳,471003
2. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,长春,130012 |
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| 摘 要： | 利用直流热阴极辉光放电方法制备出了高品质金刚石厚膜,生长速率达到20μm/h,生长厚度达到3mm.为了解其工作特性、优化沉积工艺,本文研究了放电电压对金刚石沉积速率和品质的影响.通过对扫描电镜、拉曼谱和XRD图谱分析得出,随着放电电压的增加,沉积速率呈下降趋势,电压在850～950V范围金刚石中石墨和非晶碳明显减少,晶粒均匀,表面晶向以(110)为主,金刚石薄膜的质量显著提高.
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| 关 键 词： | 直流热阴极辉光放电 金刚石厚膜 放电电压 |
Influence of Discharge Voltage on Preparation of Diamond Thick Film by Hot Cathode Direct Current Glow Discharge |
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| CHEN Qing-dong,YANG Chuan-jing,MAO Ai-xia,JIANG Zhi-gang,LIU Chai-long.Influence of Discharge Voltage on Preparation of Diamond Thick Film by Hot Cathode Direct Current Glow Discharge[J].Journal of Henan University(Natural Science),2010,40(3). |
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| Authors: | CHEN Qing-dong YANG Chuan-jing MAO Ai-xia JIANG Zhi-gang LIU Chai-long |
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