静电聚焦成象系统电子光学逆设计的研究

与通常的电子光学系统设计相反,电子光学逆设计是在给定的系统成象特性下,反求电子轨迹与电位分布,从而确定能实现所要求的成象特性的系统的结构参量与电参量。 本文由简正形式的近轴轨迹方程出发,探讨了典型静电成象系统的电子轨迹与电位分布所应满足的要求,导出了近轴轨迹与轴上电位分布之间的关系式。文中提出了用多项式为数学模型模拟电子轨迹,并通过电子计算机进行求解,最后给出了计算实例。