| MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征 |
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| 引用本文： | 吕反修 杨保雄. MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征[J]. 北京科技大学学报, 1992, 14(2): 168-175 |
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| 作者姓名： | 吕反修 杨保雄 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料系(吕反修，杨保雄)，北京科技大学材料系(蒋高松) |
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| 摘 要： | ![]()
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 低温沉积 微波等离子体 |
Low Temperature Deposition and Characterization of Diamond Thin Films by MPCVD+ |
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| Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDept.of Materials Science and Engineering,. Low Temperature Deposition and Characterization of Diamond Thin Films by MPCVD+[J]. Journal of University of Science and Technology Beijing, 1992, 14(2): 168-175 |
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| Authors: | Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDept.of Materials Science Engineering |
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| Affiliation: | Lu Fanxiu Yang Baoxion Jiang Gaosong CDept.of Materials Science and Engineering; |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | diamond film low temperature deposition microware plasma |
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