首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     


Measurements on the electrical resistivity of thin nickel films
Authors:A. van Itterbeek  L. de Greve
Affiliation:(1) Centre d'Etude scientifique et technique du froid, Louvain, Belgique
Abstract:
Résumé Dans une publication antérieure, nous avions signalé que le coefficient de température de la résistance électrique des films en nickel était négatif en dessous d'une certaine épaisseur critique (40 mµ). Au-dessus de 40 mµ, la courbe «Résistance en fonction de la température» présentait un minimum aux basses températures. A la suite de nouvelles expériences, nous avons constaté que ce phénomène est accompagné d'une déviation de la loi d'Ohm: la résistance diminue quand le courant de mesure augmente. Nous avons pu conclure que ces deux particularités ne sont qu'indirectement provoquées par la minceur des films. La cause principale est leur état de cristallisation imparfaite. En effet, après avoir subi un échauffement à 150° C pendant plusieurs heures, le coefficient de température négatif change de signe (le minimum disparaît) et la loi d'Ohm est respectée.

Research-fellow of the Belgian «Fonds National de la Recherche Scientifique»
Keywords:
本文献已被 SpringerLink 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号