Measurements on the electrical resistivity of thin nickel films |
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Authors: | A. van Itterbeek L. de Greve |
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Affiliation: | (1) Centre d'Etude scientifique et technique du froid, Louvain, Belgique |
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Abstract: | Résumé Dans une publication antérieure, nous avions signalé que le coefficient de température de la résistance électrique des films en nickel était négatif en dessous d'une certaine épaisseur critique (40 mµ). Au-dessus de 40 mµ, la courbe «Résistance en fonction de la température» présentait un minimum aux basses températures. A la suite de nouvelles expériences, nous avons constaté que ce phénomène est accompagné d'une déviation de la loi d'Ohm: la résistance diminue quand le courant de mesure augmente. Nous avons pu conclure que ces deux particularités ne sont qu'indirectement provoquées par la minceur des films. La cause principale est leur état de cristallisation imparfaite. En effet, après avoir subi un échauffement à 150° C pendant plusieurs heures, le coefficient de température négatif change de signe (le minimum disparaît) et la loi d'Ohm est respectée.
Research-fellow of the Belgian «Fonds National de la Recherche Scientifique» |
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Keywords: | |
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