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廉价制备大面积金刚石膜的高功率直流等离子体喷射设备的研制
引用本文:臧建民,钟国仿.廉价制备大面积金刚石膜的高功率直流等离子体喷射设备的研制[J].河北省科学院学报,1997,14(1):6-8.
作者姓名:臧建民  钟国仿
作者单位:河北省科学院机电一体化中试基地,北京科技大学材料系
摘    要:本文介绍了在863新材料领域资助下最新研制成功的100kw级高功率直流等离子体喷射(DCPlasmaJet)金刚石膜沉积系统。利用该系统在氩气—氢气—甲烷气体系中进行了初步的工艺试验,经过40小时的连续运行,在Φ110mm的基片上沉积出中心厚1.9mm,边沿厚1.6mm的金刚石膜。平均生长速率达44μm/h。

关 键 词:】金刚石膜,等离子体喷射

DEVELOPMENT OF HIGH POWER DC PLASMA JET SYSTEM FOR LOW COST AND LARGE AREA DIAMOND PRODUCTION
Zang,Jianmin,et.al.DEVELOPMENT OF HIGH POWER DC PLASMA JET SYSTEM FOR LOW COST AND LARGE AREA DIAMOND PRODUCTION[J].Journal of The Hebei Academy of Sciences,1997,14(1):6-8.
Authors:Zang  Jianmin  etal
Institution:Zang Jianmin et.al
Abstract:
Keywords:Diamond  films  Plasma  jet  CVD
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