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GaAs_(1-x)N_x混晶的喇曼散射研究
引用本文:林顺勇,高玉琳,吕毅军,郑健生,刘国坤.GaAs_(1-x)N_x混晶的喇曼散射研究[J].厦门大学学报(自然科学版),2004(3).
作者姓名:林顺勇  高玉琳  吕毅军  郑健生  刘国坤
作者单位:厦门大学物理学系厦门大学化学系喇曼实验室,厦门大学物理学系,厦门大学物理学系,厦门大学物理学系,厦门大学化学系喇曼实验室 福建厦门361005,福建厦门361005,福建厦门361005,福建厦门361005,福建厦门361005
基金项目:国家自然科学基金(60276002),福建省自然科学基金(A0110007)资助
摘    要:室温下采用背散射几何配置,在近共振条件下测量GaAs1-xNx混晶的喇曼散射谱.由于N原子的引入,导致类GaAs的LO1、TO1声子和类GaN的LO2声子线宽变大,禁戒的TO1声子变为喇曼活性;随着N组分的增加,TO1声子强度增大、LO1声子有红移的趋势、LO2声子有蓝移的趋势,根据它们随N组分x移动的速度推断出样品不存在应变效应.另外还讨论了布里渊区边界声子LA(L)与LO(L)、二级喇曼散射谱声子LO2、LO1 LA1(L)以及2LO1随N组分x增大的变化趋势.

关 键 词:喇曼散射  无序效应  应变效应  Ⅲ-V-N半导体

Raman Study on GaAs_(1-x)N_x Alloys
LIN Shun-yong.Raman Study on GaAs_(1-x)N_x Alloys[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),2004(3).
Authors:LIN Shun-yong
Institution:LIN Shun-yong~
Abstract:
Keywords:Raman scatter  disorder effect  strain effect  III-V-N semiconductor
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