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纳米晶钨膜的沉积工艺研究及微结构表征
引用本文:王玲,邓爱红,汪渊,王康,王一航,王飞,安竹.纳米晶钨膜的沉积工艺研究及微结构表征[J].四川大学学报(自然科学版),2015,52(2):348-352.
作者姓名:王玲  邓爱红  汪渊  王康  王一航  王飞  安竹
作者单位:四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室;四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室;四川大学物理科学与技术学院物理系;东华理工大学核工程与地球物理学院;四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室;四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室;四川大学原子核科学与技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室
基金项目:国家自然科学基金(11275132, 51171124, 50771069); 四川省科技支撑计划基金(2008FZ0002); 教育部新世纪人才基金(NCET-08-0380)
摘    要:采用射频测控溅射方法,在Ar/He混合气氛下制备了纳米晶钨膜;利用增强质子背散射、慢正电子束分析和X射线衍射分析分别对钨膜中钨原子沉积情况、空位型缺陷分布及微结构进行了分析.结果表明:纳米晶钨膜具有完好的体心立方晶体结构,沿(110)方向生长;微量的氦掺入有助于钨原子沉积,同时也有利于制备均匀性和热稳定性较好的厚钨膜.

关 键 词:金属材料  纳米晶钨膜  磁控溅射  增强质子背散射  慢正电子束分析
收稿时间:7/7/2013 12:00:00 AM

Study of deposition process and microstructure characterization of the nanocrystalline tungsten films
WANG Ling;DENG Ai-Hong;WANG Yuan;WANG Kang;WANG Yi-Hang;WANG Fei;AN Zhu.Study of deposition process and microstructure characterization of the nanocrystalline tungsten films[J].Journal of Sichuan University (Natural Science Edition),2015,52(2):348-352.
Authors:WANG Ling;DENG Ai-Hong;WANG Yuan;WANG Kang;WANG Yi-Hang;WANG Fei;AN Zhu
Institution:WANG Ling;DENG Ai-Hong;WANG Yuan;WANG Kang;WANG Yi-Hang;WANG Fei;AN Zhu;Key Laboratory for Radiation Physics and Technology of Ministry of Education,Institute of Nuclear Science and Technology,Sichuan University;Department of Physics,Sichuan University;School of Nuclear Engineering and Geophysics,East China Institute of Technology;
Abstract:
Keywords:Metallic materials  Nanocrystalline tungsten film  Magnetron sputtering enhanced proton backscattering spectrometry  Slow positron beam analysis
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