| 硅纳米孔柱阵列及其表面铜沉积 |
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| 引用本文： | 富笑男,柴花斗,李新建.硅纳米孔柱阵列及其表面铜沉积[J].科学通报,2005,50(16):1684-1688. |
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| 作者姓名： | 富笑男 柴花斗 李新建 |
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| 作者单位： | 1. 郑州大学物理系,材料物理教育部重点实验室,郑州,450052;河南工业大学数理系,郑州,450052
2. 郑州大学物理系,材料物理教育部重点实验室,郑州,450052 |
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| 基金项目： | 致谢 本工作为国家自然科学基金（批准号：19904011、20471054）、河南省自然科学基金（批准号：411011800）和河南省青年骨干教师资助项目. |
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| 摘 要： | 采用水热腐蚀技术制备了硅纳米孔柱阵列(silicon nanoporous pillar array, Si-NPA), 并以此为衬底通过浸渍沉积制备出一种具有规则表面结构的铜/Si-NPA纳米复合薄膜(Cu/Si-NPA). 形貌和结构分析表明, Si-NPA是一个典型的硅微米/纳米结构复合体系, 它具有三个分明的结构层次, 即微米尺度的硅柱所组成的规则阵列、硅柱表面密集分布的纳米孔洞以及组成孔壁的硅纳米单晶颗粒. 研究发现, Cu/Si-NPA在形貌上保持了Si-NPA的柱状阵列特征, 薄膜中铜纳米颗粒的致密度随样品表面微区几何特征在柱顶区域和柱间低谷区域的不同而交替变化, 并形成一种准周期性结构. 上述实验现象被认为来源于铜原子的沉积速度对Si-NPA表面微区几何特征的选择性. Si-NPA可以成为合成具有某些特殊图案、结构和功能的金属/硅纳米复合体系的理想模板.
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| 关 键 词： | 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA) Cu/Si-NPA 层次结构 浸渍沉积 水热腐蚀 |
| 收稿时间： | 2005-02-16 |
| 修稿时间： | 2005-02-162005-06-02 |
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