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硅基超晶格Ⅵ(A)/Si6/SiO2/Si6/Ⅵ(A)的电子结构
引用本文:陈捷,黄美纯. 硅基超晶格Ⅵ(A)/Si6/SiO2/Si6/Ⅵ(A)的电子结构[J]. 厦门大学学报(自然科学版), 2007, 46(2): 175-178
作者姓名:陈捷  黄美纯
作者单位:厦门大学物理学系,福建,厦门,361005
摘    要:硅的有效光发射是硅基光电器件研究的一个关键问题,因此一直受到广泛的关注.本文采用第一性原理对新的硅基材料Ⅵ(A)/Sim/SiO2/Sim/Ⅵ(A)(m=6,Ⅵ(A)=O,Se)的能带结构、态密度和电荷密度等进行了计算研究.通过改变掺入Ⅵ(A)族原子氧和硒的对比,分析了SiO2层、不同的Ⅵ(A)族原子以及它们与最近邻Si原子的相互作用对硅基材料电子性质的影响.研究表明,在局域密度近似(LDA)下,O/Si6/SiO2/Si6/O结构在X点存在准直接带隙的特征,而Se/Si6/SiO2/Si6/Se在Γ点存在很小的直接带隙.

关 键 词:超晶格  硅基材料  能带结构
文章编号:0438-0479(2007)02-0175-04
修稿时间:2006-07-07

Electronic Structure of Si-based Superlattice Ⅵ(A)/Si6/SiO2/Si6/Ⅵ(A)
CHEN Jie,HUANG Mei-chun. Electronic Structure of Si-based Superlattice Ⅵ(A)/Si6/SiO2/Si6/Ⅵ(A)[J]. Journal of Xiamen University(Natural Science), 2007, 46(2): 175-178
Authors:CHEN Jie  HUANG Mei-chun
Affiliation:Department of Physies,Xiamen University,Xiamen 361005,China
Abstract:
Keywords:superlattice  Si-based material  electronic band structures
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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