| 热处理对离子束溅射Ni-Cr薄膜性能和结构的影响 |
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| 引用本文： | 周继承,晏建武,田莉.热处理对离子束溅射Ni-Cr薄膜性能和结构的影响[J].中南大学学报(自然科学版),2006,37(5):837-840. |
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| 作者姓名： | 周继承 晏建武 田莉 |
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| 作者单位： | 1. 中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083
2. 中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083;南昌航空工业学院,材料科学与工程系,江西,南昌,330034 |
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| 摘 要： | 采用低能离子束溅射技术制备Ni-Cr合金薄膜,并对Ni-Cr合金薄膜进行快速热处理.用小角度X射线衍射仪、扫描电镜、原子力显微镜、α-台阶仪、四探针仪等测量薄膜的结构、形貌、厚度及电子学特性.研究结果表明：采用低能离子束溅射技术结合快速热处理工艺可以制备性能优良的Ni-Cr合金薄膜,薄膜的厚度与溅射时间呈正比;经过350℃及以上温度快速热处理后,溅射非晶态Ni-Cr合金薄膜发生晶化;溅射态合金薄膜方块电阻与溅射时间呈反比;薄膜方块电阻随热处理温度的升高而降低,经450℃/600 s热处理后薄膜方块电阻不发生变化.
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| 关 键 词： | 离子束溅射技术 纳米Ni-Cr合金薄膜 快速热处理工艺 |
| 文章编号： | 1672-7207(2006)05-0837-04 |
| 收稿时间： | 2006-01-10 |
| 修稿时间： | 2006年1月10日 |
Influence of rapid thermal process on the structure and properties of Ni-Cr thin-films fabricated by ion beam sputtering |
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| ZHOU Ji-cheng,YAN Jian-wu,TIAN Li.Influence of rapid thermal process on the structure and properties of Ni-Cr thin-films fabricated by ion beam sputtering[J].Journal of Central South University:Science and Technology,2006,37(5):837-840. |
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| Authors: | ZHOU Ji-cheng YAN Jian-wu TIAN Li |
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| Institution: | 1. School of Physics Science and Technology, Central South University, Changsha 410083, China; 2. Department of Material Science and Engineering, Nanchang Institute of Aeronautical Technology, Nanchang 330034, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion beam sputtering technology Ni-Cr alloy thin-films rapid thermal process |
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