| 电子束在胶层及衬底中散射轨迹的MonteCarlo模拟并从背散射系数看LB抗蚀层优越性 |
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| 引用本文： | 鲁武,顾宁,陆祖宏,韦钰.电子束在胶层及衬底中散射轨迹的MonteCarlo模拟并从背散射系数看LB抗蚀层优越性[J].应用科学学报,1995(1). |
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| 作者姓名： | 鲁武 顾宁 陆祖宏 韦钰 |
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| 作者单位： | 东南大学吴健雄实验室 |
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| 摘 要： | 用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ方法研究了电子束曝光中电子与胶层及衬底中原子相互作用情况，提出了一个高能电子在多层介质间散射的“折射”模型，模拟了不同条件下在硅衬底或覆铬硅片上用Ｌａｎｇｍｕｉｒ－Ｂｌｏｄｇｅｔｔ（ＬＢ）技术和旋涂法制备的聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）抗蚀层及衬底中电子的散射轨迹，并计算了背散射系数。结果证明：在相同的电子束能下，电子在ＬＢ抗蚀层中存在较小的背散射系数，并且采用较低或较高的能量曝光，均可达到减小背散射的目的。
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| 关 键 词： | 散射，MonteCarlo模拟，Langmuir－Blodgett技术，背散射系数，电子束曝光。 |
MONTE CARLO SIMULATION OF ELECTRON BEAM SCATTERING TRAJECTORIES IN LB RESISTS AND SUBSTRATE AND THE SUPERIORITIES OF LB RESISTS FROM BACK-SCATTERED YIELD |
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| LU WU,GU NING,LU ZUHONG WEI YU.MONTE CARLO SIMULATION OF ELECTRON BEAM SCATTERING TRAJECTORIES IN LB RESISTS AND SUBSTRATE AND THE SUPERIORITIES OF LB RESISTS FROM BACK-SCATTERED YIELD[J].Journal of Applied Sciences,1995(1). |
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| Authors: | LU WU GU NING LU ZUHONG WEI YU |
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| Institution: | chien-shiung wu Laboratory Southeast University |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | scatter Monte Carlo simulation LB techniques back-scattered yield electron beam exposure |
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