| 共面介质阻挡放电蒸发聚四氟乙烯沉积碳氟膜的研究 |
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| 引用本文： | 王惠,吴庆浩,朱爱民.共面介质阻挡放电蒸发聚四氟乙烯沉积碳氟膜的研究[J].东北师大学报(自然科学版),2009,41(2). |
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| 作者姓名： | 王惠 吴庆浩 朱爱民 |
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| 作者单位： | 1. 大连教育学院,辽宁,大连,116021;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
2. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，教育部新世纪优秀人才支持计划 |
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| 摘 要： | 首次将共面型介质阻挡放电(C-DBD)应用于蒸发聚四氟乙烯(PTFE)并沉积制备了碳氟膜,制备的碳氟膜尺寸为50~100 nm,其表面均方根(RMS)粗糙度为15.55 nm(测量面积为10μm × 10μm).发射光谱表明,C-DBD产生了能量较高的电子激发态Ar原子(12.9～13.5 eV).该方法装置简单,在常温常压下操作,薄膜沉积速率快,而且环境友好.
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| 关 键 词： | 介质阻挡放电 蒸发 碳氟膜 聚四氟乙烯 |
Atmospheric-pressure deposition of CFx films from PTFE evaporated by coplanar dielectric barrier discharge |
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| WANG Hui,WU Qing-hao,ZHU Ai-min.Atmospheric-pressure deposition of CFx films from PTFE evaporated by coplanar dielectric barrier discharge[J].Journal of Northeast Normal University (Natural Science Edition),2009,41(2). |
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| Authors: | WANG Hui WU Qing-hao ZHU Ai-min |
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