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| 热流计SiO_2热阻层离子束溅射制备及耐热性研究 | |
| 引用本文： | 丁玎,张浩,何峰.热流计SiO_2热阻层离子束溅射制备及耐热性研究[J].湘潭大学自然科学学报,2021(2):89-94. |
| 作者姓名： | 丁玎 张浩 何峰 |
| 摘 要： | 薄膜热阻式热流计具有响应速度快、结构微型化以及量程广、输出大等优点,是当前使用最广泛的热流传感器.热阻层SiO_2膜层与基底材料的结合性能对于热流计的高可靠性来说十分重要,而膜层特性与溅射沉积参数、后期热处理技术之间密切相关.因此,该文围绕离子束溅射SiO_2薄膜作为热流计热阻层材料,对不同镀膜时间、热处理工艺之后膜层的表面成分、形貌以及与基底结合强度进行了研究分析.研究发现,550℃热处理能够有效改善膜层的结合力,离子束溅射制备的SiO_2薄膜热阻层在高温循环考核的环境下依然保持了较强的结合力. |
| 关 键 词： | 热流计 离子束溅射 热阻层 SiO2膜 结合强度 |
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