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| 用CH4—H2直流弧光放电CVD法高速合成金刚石薄膜 | |
| 引用本文： | 蒋翔六,张伤清.用CH4—H2直流弧光放电CVD法高速合成金刚石薄膜[J].兰州大学学报(自然科学版),1989,25(3):163-164. |
| 作者姓名： | 蒋翔六 张伤清 |
| 作者单位： | 北京市科学技术研究院 (蒋翔六)，兰州大学物理系 (张仿清，李敬超，杨斌，杨映虎)，兰州大学物理系(陈光华) |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 金刚石薄膜 直流弧光放电 CVD法 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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