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| 二十一世纪微电子光刻技术与设备的发展对策研究 | |
| 作者姓名： | 温尚明 袁大发 唐勇 孙秋燕 白德开 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院光电技术研究所,成都,610209;中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
| 基金项目： | 中国科学院情报基金课题研究成果. |
| 摘 要： | 微电子、集成电路的水平是国家地位和综合国力的重要标志。集成电路集成度的增长离不开生产和制作集成电路的光刻设备。本文重点介绍集成电路的制造技术的制作设备的最新发展状况,提出发展我国微电子光刻技术的建议。 |
| 关 键 词： | 微电子 光刻发展轨迹 下一代光刻技术 |
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