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铁磁/绝缘层/有机半导体/铁磁多层膜隧道结的隧穿磁电阻的温度和偏压特性研究
作者姓名:张佩佩  徐明  陈尚荣  吴艳南  周勋  刘杰
作者单位:① 四川师范大学物理与电子工程学院&固体物理研究所低维结构物理实验室, 成都 610068;  ② 贵州师范大学物理与电子科学学院, 贵阳 550001
基金项目:贵州省科技厅应用基础研究项目(编号: 黔科通J合[2006]2004)和四川省教育厅自然科学重点项目资助(编号: 07ZA095)
摘    要:采用Slonczewski的近自由电子模型, 利用转移矩阵的方法, 研究了铁磁/绝缘层/有机半导体/铁磁隧道结的自旋极化载流子隧穿的温度和偏压特性. 计算了T=4 K和T=300 K时, 隧穿磁电阻(Tunneling Magnetic Resistance, TMR)随偏压的变化关系, 同时还研究了零温时在有限偏压下隧穿磁电阻TMR与绝缘层厚度、有机半导体层厚度以及铁磁/有机半导体界面势垒U的变化关系. 我们的计算结果较好地解释了有关的实验 结论.

关 键 词:多层膜  有机半导体  绝缘体  铁磁层  隧穿磁电阻
收稿时间:2009-12-09
修稿时间:2010-01-22
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