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用DLTS研究硅中注磷缺陷的退火行为
引用本文:张玉峰,孟军,杜永昌,吴书祥.用DLTS研究硅中注磷缺陷的退火行为[J].北京大学学报(自然科学版),1982(4).
作者姓名:张玉峰  孟军  杜永昌  吴书祥
作者单位:北京大学物理系 (张玉峰,孟军,杜永昌),北京大学物理系(吴书祥)
摘    要:用DLTS确定N型硅中注磷产生的电学缺陷,测量了从200℃到700℃热退火和不同辐照时间的CW-CO_2激光退火后电子陷阱的能级,浓度剖面分布和俘获截面,根据缺陷的退火行为并和已报道的数据进行了比较,分析了缺陷的可能构造。

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