| 基于分子源SrTiO_3薄膜同质外延生长的Monte Carlo模拟Ⅱ:模拟结果与讨论 |
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| 引用本文： | 张青磊,朱基亮,谭浚哲,于光龙,吴家刚,朱建国,肖定全.基于分子源SrTiO_3薄膜同质外延生长的Monte Carlo模拟Ⅱ:模拟结果与讨论[J].四川大学学报(自然科学版),2005(Z1). |
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| 作者姓名： | 张青磊 朱基亮 谭浚哲 于光龙 吴家刚 朱建国 肖定全 |
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| 作者单位： | 四川大学材料科学系 四川大学材料科学系 成都 |
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| 摘 要： | 根据本文作者提出的以SrTi O3为代表的ABO3型氧化物薄膜成长机制以及基于MonteCarlo方法的三维模型及模拟算法(详见另文),编制了模拟软件,模拟了不同沉积速率、不同的基底温度下的薄膜组成.模拟过程中两个输入参数选为薄膜的沉积速率和沉积温度,并根据一般研究中采用的实验条件,分别取沉积速率为0.00125ML/s和0.004ML/s(单层/秒,Mono-layer/second,以下同),基底温度为500K～800K.模拟结果表明,随着基底温度的升高,薄膜中SrO分子和Ti O2分子的数目逐渐减少,当超过某一临界温度,薄膜为完全的SrTi O3薄膜;而且随着沉积速率的升高,同质外延生长SrTi O3的最低温度也随之升高.
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| 关 键 词： | Monte Carlo模拟 薄膜生长 分子源 SrTiO_3薄膜 氧化物 |
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