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MeV Pb离子在非晶Si中的射程离散──离子束混合和增强扩散的影响
引用本文:卢武星.MeV Pb离子在非晶Si中的射程离散──离子束混合和增强扩散的影响[J].北京师范大学学报(自然科学版),1994(4).
作者姓名:卢武星
作者单位:北京师范大学低能核物理研究所
摘    要:1.0MeV208Pb离子在非晶Si中的投影射程RP和射程偏差ΔRP作为注量和温度二者的函数用背散射法进行测定.注量的变化范围为5×1013~7×1014cm-2.注入是在室温和t=-120℃下完成的.由由实验所确定的投影射程,射程偏差与注量或温度无关,并且分别等于295和72.2nm.与TRIM86的计算结果相比较,发现RP的偏离为18%,而ΔRP的偏离为36%.RP和ΔRP二者与注量及温度的无关性,排除了所观察到的与TRIM的矛盾是由于注入期间辐射增强扩散或离子束混合效应而引起的解释。

关 键 词:投影射程,射程偏差,离子束混合,辐射增强扩散
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