La和Nd掺杂的硅基Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜的无疲劳特性及其机理的比较研究 |
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引用本文: | 李美亚,裴玲,刘军,于本方,郭冬云,孙小华,赵兴中.La和Nd掺杂的硅基Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜的无疲劳特性及其机理的比较研究[J].中国科学(E辑),2009(5). |
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作者姓名: | 李美亚 裴玲 刘军 于本方 郭冬云 孙小华 赵兴中 |
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作者单位: | 武汉大学物理科学与技术学院;武汉大学教育部声光材料与器件重点实验室;三峡大学机械与材料学院; |
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基金项目: | 湖北省自然科学基金项目(批准号:2004ABA082)资助 |
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摘 要: | 采用优化的溶胶-凝胶(Sol-gel)技术,同一工艺条件下在Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上成功地制备了Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)和Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)铁电薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明BLT和BNT薄膜具有单相的取向随机的多晶微结构;扫描电镜(SEM)的观测显示了这些薄膜具有50~100nm晶粒构成的均匀致密的表面形貌.利用铁电测试仪测定了以Cu为上电极而形成的金属-铁电薄膜-金属结构的电容器的铁电性能,得到了很好的饱和电滞回线.在最大外加场强为400kV/cm时,BLT和BNT薄膜的剩余极化强度(2Pr)和矫顽电场(2Ec)分别为25.1μC/cm2,203kV/cm和44.2μC/cm2,296kV/cm.疲劳测试表明,在1MHz频率测试下经过1.75×1010次读写循环后,由BLT和BNT薄膜组成的电容器几乎没有表现出疲劳,呈现很好的抗疲劳特性.分析比较了La和Nd掺杂对薄膜结构及铁电性能的影响及其机理.
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关 键 词: | BLT BNT 铁电性质 疲劳 溶胶-凝胶技术 |
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