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Fe-氧化物薄膜的室温低场正磁电阻和高场负磁电阻
引用本文:赵昆,邢杰,刘玉资,赵见高,吕惠宾.Fe-氧化物薄膜的室温低场正磁电阻和高场负磁电阻[J].科学通报,2007,52(7):752-755.
作者姓名:赵昆  邢杰  刘玉资  赵见高  吕惠宾
作者单位:1. 中国石油大学(北京)数理系,北京,102249;中国科学院国际材料物理中心,沈阳,110016
2. 北京凝聚态国家实验室,中国科学院物理研究所,北京,100080
基金项目:国家自然科学基金项目(批准号:50672132,60576015)和教育部科学技术研究重点项目(批准号:107020)资助.
摘    要:采用对靶溅射技术制备了多相共存的Fe-氧化物薄膜. X射线衍射和X射线光电子能谱的测试表明薄膜存在有多相: Fe, Fe3O4, γ-Fe2O3, FeO. 高分辨透射电子显微镜结果表明薄膜由柱状颗粒结构组成, 其中核心是未氧化的Fe, 外壳为Fe的氧化物. 在室温时, 低场正磁阻和高场负磁阻共存于Fe-氧化物薄膜中, 利用壳层模型给出了初步解释. 非线性电流-电压曲线和光生伏特效应进一步验证了薄膜的隧穿电导特性.

关 键 词:磁电阻  磁性  薄膜  
收稿时间:2006-11-14
修稿时间:2006-11-142007-02-13
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