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用脉冲准分子激光在P-Si(100)衬底上沉积高取向KTN薄膜
引用本文:马卫东.用脉冲准分子激光在P-Si(100)衬底上沉积高取向KTN薄膜[J].科学通报,1998,43(3):259-262.
作者姓名:马卫东
作者单位:华中理工大学物理系!武汉430074,华中理工大学物理系!武汉430074,华中理工大学物理系!武汉430074,华中理工大学物理系!武汉430074,华中理工大学激光技术国家重点实验室!武汉430074,华中理工大学激光技术国家重点实验室!武汉430074,华中理工大学激光技术国家重点实验室!武汉4300
基金项目:激光技术国家重点实验室基金资助项目
摘    要:利用Sol Gel法制备了优质KTN陶瓷靶材 ,用PLD技术成功地在P Si(10 0 )衬底上沉积出了较纯净钙钛矿相 (>98% )的KTN薄膜 ,并对所制备的薄膜进行了XRD ,SEM分析

关 键 词:薄膜  焦绿石相  钙钛矿相  脉冲激光沉积  KTN
收稿时间:1997-06-28
修稿时间:1997-09-30
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