| 衬底温度和退火处理对类金刚石非晶碳膜光电发射谱的影响 |
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| 引用本文： | 徐彭寿,方容川. 衬底温度和退火处理对类金刚石非晶碳膜光电发射谱的影响[J]. 中国科学技术大学学报, 1988, 0(4) |
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| 作者姓名： | 徐彭寿 方容川 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学同步辐射实验室(徐彭寿)，中国科学技术大学物理系(方容川) |
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| 摘 要： | 在硅衬底下,用等离子辉光放电的方法制备了一组衬底温度为20℃、100℃、200℃和280℃的样品。在光电子能谱仪中测量了它们在HeⅠ(21.2eV)激发下的UPS谱。此外还测量了衬底为常温的样品在退火温度为200℃、350℃、500℃、700℃和800℃时的UPS谱。实验结果表明,衬底温度在200℃至280℃时,金刚石成分略有增加,当退火温度低于350℃时,金刚石成分有所增加,但高于350℃后,迅速向石墨方向转化。本文对实验结果进行了讨论,认为氢在其中起了重要作用。
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| 关 键 词： | 类金刚石非晶碳膜 衬底温度 退火处理 光电发射谱 金刚石结构 石墨结构 |
The Effect of Deposition Temperature and Annealing on Photoemmission Spectra of Diamond-like Amorphous Carbon Films |
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| Xu Pengshou,Fang Rongchuan Synchrotron Radiation Lab. Dept. of Physics. The Effect of Deposition Temperature and Annealing on Photoemmission Spectra of Diamond-like Amorphous Carbon Films[J]. Journal of University of Science and Technology of China, 1988, 0(4) |
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| Authors: | Xu Pengshou Fang Rongchuan Synchrotron Radiation Lab. Dept. of Physics |
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| Affiliation: | Xu Pengshou;Fang Rongchuan Synchrotron Radiation Lab. Dept. of Physics |
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| Keywords: | Diamond-like Amorphous Carbon Film Deposition Temperature Annealing Photoemmission spectrum Diamond structure Graphitic structure |
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