GD a—Si:H薄膜的内耗及结构缺陷 |
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引用本文: | 吴平,杨国平,吕金钟,李文彬.GD a—Si:H薄膜的内耗及结构缺陷[J].河北理工学院学报,1993(4). |
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作者姓名: | 吴平 杨国平 吕金钟 李文彬 |
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作者单位: | 北京科技大学,北京科技大学,北京科技大学,北京科技大学 |
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摘 要: | 用簧片振动法测量了GD a—S_1:H薄膜的内耗。在一170~100℃范围内观察到3个内耗峰——P_1、P_2和P_3。测量结果表明:P_1和P_2峰为驰豫型内耗峰,激活能分别为0.62ev和0.45ev。对样品进行250~300℃退火后,在—70~—30℃区间又观察到一新驰豫型内耗峰,激活能为0.22ev。分析认为P_1由双空位及复合缺陷造成,P_2由单空位造成,P_3可能由线缺陷造成,退火后新出的峰是晶界峰,从而提出a—Si:H中可能的缺陷模式为单空位、双空位、复合缺陷、线缺陷和晶界等。
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关 键 词: | 内耗 GDa—Si:H 缺陷 |
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