首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

GD a—Si:H薄膜的内耗及结构缺陷
引用本文:吴平,杨国平,吕金钟,李文彬.GD a—Si:H薄膜的内耗及结构缺陷[J].河北理工学院学报,1993(4).
作者姓名:吴平  杨国平  吕金钟  李文彬
作者单位:北京科技大学,北京科技大学,北京科技大学,北京科技大学
摘    要:用簧片振动法测量了GD a—S_1:H薄膜的内耗。在一170~100℃范围内观察到3个内耗峰——P_1、P_2和P_3。测量结果表明:P_1和P_2峰为驰豫型内耗峰,激活能分别为0.62ev和0.45ev。对样品进行250~300℃退火后,在—70~—30℃区间又观察到一新驰豫型内耗峰,激活能为0.22ev。分析认为P_1由双空位及复合缺陷造成,P_2由单空位造成,P_3可能由线缺陷造成,退火后新出的峰是晶界峰,从而提出a—Si:H中可能的缺陷模式为单空位、双空位、复合缺陷、线缺陷和晶界等。

关 键 词:内耗  GDa—Si:H  缺陷
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号