热处理对非晶态Mo-Si薄膜超导性能的影响 |
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引用本文: | 郭树权.热处理对非晶态Mo-Si薄膜超导性能的影响[J].科学通报,1986,31(19):1454-1454. |
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作者姓名: | 郭树权 |
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作者单位: | 中国科学院物理研究所 北京
(郭树权,崔长庚,蒋华),中国科学院物理研究所 北京(赵忠贤) |
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摘 要: | 目前对非晶态超导电性的规律、电子结构、声子谱等特性都有比较深入的了解。非晶态超导体与其他超导转变温度(T_c)差不多的超导体相比,它具有很高的临界磁场(H_(c2)),具有易锻造、不脆、易弯曲、机械强度大等特性,这些特性对制造超导磁体是非常有利的。可惜它的临界电流密度(J_c)太低,对于某些非晶态超导体进行适当热处理,J_c能显著
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收稿时间: | 1985-11-25 |
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