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无氰K金电铸沉积层合金成分的研究
引用本文:王妮妮,梁吉,魏秉庆,吴德海.无氰K金电铸沉积层合金成分的研究[J].清华大学学报(自然科学版),1998(8).
作者姓名:王妮妮  梁吉  魏秉庆  吴德海
作者单位:清华大学机械工程系
摘    要:为了控制无氰K金(Au-Cu二元合金)电铸沉积层的合金成分,研究了影响沉积层合金成分的几个因素及其影响情况。进行电沉积实验时,阳极采用纯金平板,阴极采用纯铜板。每次实验采用不同的参数。实验所得沉积层用T-450型扫描电镜的能谱检测其合金成分,即可得各影响因素对合金成分的影响情况。实验结果表明:合金成分与镀液中金、铜离子质量浓度比、阴极电流密度、络合剂(DTPA)的含量以及镀液温度等因素有关,其中镀液中金铜比是最重要的影响因素。本文所研究的内容对于利用无氰K金电铸工艺生产空心、K金首饰技术生产时控制沉积层的合金成分具有很重要的意义。

关 键 词:无氰  K金  电铸  成分

Study on composition of karat gold deposition without cyanide by electroforming
WANG Nini,LIANG Ji,WEI Bingqing,WU Dehai.Study on composition of karat gold deposition without cyanide by electroforming[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),1998(8).
Authors:WANG Nini  LIANG Ji  WEI Bingqing  WU Dehai
Institution:WANG Nini,LIANG Ji,WEI Bingqing,WU Dehai Department of Mechanical Engineering,Tsinghua University,Beijing 100084,China
Abstract:
Keywords:non  cyanide  karat  gold  electroforming  composition
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