| 染料旋涂工艺中的挥发和流动 |
| |
| 引用本文： | 岳宏达,潘龙法,徐端颐.染料旋涂工艺中的挥发和流动[J].清华大学学报(自然科学版),2004,44(2):174-177. |
| |
| 作者姓名： | 岳宏达 潘龙法 徐端颐 |
| |
| 作者单位： | 清华大学,精密仪器与机械学系,北京,100084 |
| |
| 基金项目： | 国家 "九七三" 重点基础研究项目 (G19990330) |
| |
| 摘 要： | 染料旋涂是高密度可录光盘复制工艺中的核心部分,其流体流动的力学机制分析属于旋转圆盘系统理论的最新进展,文中分析了染料旋涂中复合溶剂的挥发对流体流动的影响.利用牛顿流体旋涂模型和旋涂溶剂挥发模型进行仿真实验,并对过渡点位置进行修正.依托实际光盘复制生产线进行离线旋涂实验.根据仿真实验和生产线旋涂实验提出染料旋涂的工艺模型 无溶剂挥发、无流体流动的下料阶段; 无溶剂挥发、有流体流动的扩散阶段; 有溶剂挥发、无流体流动的甩干阶段.利用工艺模型优化染料旋涂工艺,实现生产线的闭环控制.
|
| 关 键 词： | 染料旋涂 旋转圆盘 流动机制 溶剂挥发 工艺模型 |
| 文章编号： | 1000-0054(2004)02-0174-04 |
| 修稿时间： | 2003年2月24日 |
Evaporation and flow in the dye coating process |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | dye coating rotating disk flow mechanism solvent evaporation process model |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
