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磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析
引用本文:周亚非.磁性薄膜自发磁化强度的变分累计展开分析[J].渝西学院学报(自然科学版),2004,3(4):18-20.
作者姓名:周亚非
作者单位:渝西学院物理学与电子信息工程系 重庆永川402168
基金项目:重庆市教委科学技术研究项目 (批准号 :0 3 12 0 2 )资助
摘    要:利用变分累计展开方法,分析了Heisenberg磁性薄膜的自发磁化强度到三级累积展开,结果表明:自发磁化强度依赖于薄膜的层数,在某一临界厚度以下,自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小,其结果与实验数据接近。

关 键 词:Heisenberg薄膜  自发磁化强度  变分累计展开

Analytical Study of Spontaneous Magnetization with Variational Cumulant Expansion in Magnetic Thin Film
Authors:ZHOU Ya-fei
Abstract:The magnetic properties of quantum Heisenberg film is studied in variational cumulant expansion method. The spontaneous magnetization is calculated to the third order. For thicknesses below a critical thickness , the spontaneous magnetization depends on the number of atomic layers and decreases rapidly as the number of atomic layers is decreased. The results are consistent with experimental facts.
Keywords:quantum Heisenberg film  spontaneous magnetization  variational cumulant expansion
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