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| 微波ECR等离子体高速溅射装置的研制 | |
| 作者姓名： | 汪建华 袁润章 邬钦崇 任兆杏 |
| 作者单位： | 武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室,中科院等离子体物理研究所 |
| 摘 要： | 研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置．采用微波真空波导及反常模式或输入技术,利用腔内双靶构成的电场镜,使高能γ电子在电场镜中振荡,从而获得高密度的等离子体．并且,导电膜能连续高速沉积,在２．７×１０－２Ｐａ的低气压下,铜膜的沉积速率可达１２０ｎｍ／ｍｉｎ． |
| 关 键 词： | ECR等离子体 高速溅率 电场镜 |
| 修稿时间： | 1998-10-11 |
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