| 磁控溅射法生长ZnO薄膜的结构和表面形貌特性 |
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| 引用本文： | 潘峰,郭颖,陈长乐,文军.磁控溅射法生长ZnO薄膜的结构和表面形貌特性[J].陕西理工学院学报(自然科学版),2010,26(4). |
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| 作者姓名： | 潘峰 郭颖 陈长乐 文军 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法,在Si(111)和玻璃基片上制备ZnO薄膜.研究衬底温度和基片类型对薄膜结构、表面形貌的影响.结果显示,所有ZnO薄膜沿c轴择优生长,同种基片类型上生长的薄膜,随着衬底温度升高,(002)衍射峰强度和表面粗糙度增高;相同衬底温度下生长的ZnO薄膜,Si基片上制备的薄膜(002)衍射峰强度和表面粗糙度小于玻璃片上的.基片类型影响薄膜应力状态,玻璃片上制备的ZnO薄膜处于张应变状态,Si基片上的薄膜处于压应变状态;对于同种基片类型上生长的ZnO薄膜,衬底温度升高,应力减小.Si衬底上、300℃下沉积的薄膜颗粒尺寸分布呈正态.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 衬底温度 衬底类型 结构 表面形貌 |
Structure and morphology characteristics of ZnO thin films grown by RF magnetron sputtering |
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| PAN Feng,GUO Ying,CHEN Chang-le,WEN Jun.Structure and morphology characteristics of ZnO thin films grown by RF magnetron sputtering[J].Journal of Shananxi University of Technology:Natural Science Edition,2010,26(4). |
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| Authors: | PAN Feng GUO Ying CHEN Chang-le WEN Jun |
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