| 新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应 |
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| 引用本文： | 赵金玲,李滨松,薄志山.新型金属卟啉共轭聚合物的合成与光电流响应[J].科学通报,2006,51(5):524-531. |
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| 作者姓名： | 赵金玲 李滨松 薄志山 |
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| 作者单位： | 中国科学院化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,北京,100080 |
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| 基金项目： | 致谢 本工作为国家自然科学基金（批准号：20225415,20423003和20374053）和国家基础研究发展规划（批准号：2002CB613401）资助项目. |
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| 摘 要： | 采用Sonogashira 偶联反应, 制备了几种以芴或咔唑为间隔基的新型金属卟啉共轭聚合物. 这些新型金属卟啉共轭聚合物具有较高的分子量、很好的溶解性和成膜性. 其光谱性质和光电流响应结果表明, 聚合物中卟啉的含量是影响卟啉聚合物光电流响应的主要因素, 且咔唑基团的引入有利于卟啉聚合物光电流的产生.
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| 关 键 词： | 卟啉 共轭聚合物 光电流响应 |
| 收稿时间： | 2005-11-04 |
| 修稿时间： | 2005-11-042005-12-22 |
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