光学薄膜镀制技术的对比研究 |
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引用本文: | F.弗洛里,C.昂拉,M.科芒德烈,E.佩尔蒂埃,G.阿尔布朗,李东光,周鹏飞. 光学薄膜镀制技术的对比研究[J]. 上海理工大学学报, 1990, 0(1) |
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作者姓名: | F.弗洛里 C.昂拉 M.科芒德烈 E.佩尔蒂埃 G.阿尔布朗 李东光 周鹏飞 |
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作者单位: | 法国马赛国家高等物理学院(F.弗洛里,C.昂拉,M.科芒德烈,E.佩尔蒂埃,G.阿尔布朗),上海机械学院(李东光),上海机械学院(周鹏飞) |
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摘 要: | 本文介绍了两种光学镀膜真空淀积技术——离子辅助淀积和反应离子镀,并详述了近年来的应用及进一步的发展。
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关 键 词: | 光学敷层 光学薄膜 离子辅助淀积 离子镀 |
COMPARATIVE STUDY OF SOME TECHNIQUES USED TO MANUFACTURE OPTICAL COATINGS |
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Abstract: | The present paper looks briefly at two types of advanced vacuum deposition technology in the field of optical coating, ion assisted deposition(IAD)and reactive ion plating(RIP); in the meanwhile, focusing on the application in recent years and their prospects. |
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Keywords: | Optical coatings Optical thin films Ion assisted deposition Ion plating |
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