| 同时形成用于浅结器件的TiNxOy／TiSi2的热稳定性 |
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| 引用本文： | 陈存礼,华文玉.同时形成用于浅结器件的TiNxOy／TiSi2的热稳定性[J].应用科学学报,1993,11(3):253-257. |
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| 作者姓名： | 陈存礼 华文玉 |
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| 作者单位： | 南京大学
(陈存礼，宋海智)，华东工学院(华文玉) |
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| 基金项目： | 高纯硅及硅烷国家实验室基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用900℃15秒快速热退火使硅上钛膜在高纯NH_3中同时形成TiN_xO_y/TiSi_2双层结构.研究了TiN_xO_y作为Al的扩散势垒的有效性.结果表明,Al/TiN_xO_y/TiSi_2/Si接触系统直至550℃在N_2中烧结30分钟仍然具有良好的热稳定性.
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| 关 键 词： | 钛硅化物 扩散势垒 热稳定性 |
THERMAL STABILITY OF SIMULTANEOUSLY FORMED TiN_xO_y/TiSi_2 FOR SHALLOW JUNCTION DEVICE APPLICATIONS |
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| CHEN cUNLI SONG HAIZHI.THERMAL STABILITY OF SIMULTANEOUSLY FORMED TiN_xO_y/TiSi_2 FOR SHALLOW JUNCTION DEVICE APPLICATIONS[J].Journal of Applied Sciences,1993,11(3):253-257. |
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| Authors: | CHEN cUNLI SONG HAIZHI |
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| Institution: | CHEN cUNLI SONG HAIZHI(Nanjing University)HUA WENYU(East China Institute of Technology) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | titanium silicide diffusion barrier rapid thermal annealing |
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