| 还原反应法制备的Fe3O4薄膜的结构和磁性 |
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| 引用本文： | 李立伟,邱红梅,赵雪丹,徐美,秦良强.还原反应法制备的Fe3O4薄膜的结构和磁性[J].中央民族大学学报(自然科学版),2006,15(4):325-329,338. |
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| 作者姓名： | 李立伟 邱红梅 赵雪丹 徐美 秦良强 |
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| 作者单位： | 北京科技大学物理系,北京,100083 |
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| 摘 要： | 本文采用还原反应法1],在Ar H2气体氛围中,射频磁控溅射制备Fe3O4薄膜.薄膜沉积在室温的100]热氧化硅基体上,对薄膜样品进行X射线衍射(XRD)和电阻率(ρ)测量,结果显示在H2:Ar=γ=2%,或3%时薄膜的成分完全是Fe3O4,并且具有沿111]方向取向生长的特性.对薄膜(γ=3%)进一步研究,发现该薄膜的表面成分为Fe3O4;在120K附近发生Verwey转变,其导电机制以电子的变程跳跃(VRH)为主;饱和磁化强度为440emu/cm3;在5特斯拉的外场中有4.6%的室温磁电阻.
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| 关 键 词： | 还原反应 Fe3O4薄膜 Verwey转变 磁性 |
| 文章编号： | 1005-8036（2006）04-0325-05 |
| 收稿时间： | 2006-04-20 |
| 修稿时间： | 2006-04-20 |
Fabrication and Magnetic Properties of Magnetite Thin Films Deposited by Reduction-reactive Sputtering |
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| LI Li-wei,QIU Hong-mei,ZHAO Xue-dan,XU Mei,QIN Liang-qiang.Fabrication and Magnetic Properties of Magnetite Thin Films Deposited by Reduction-reactive Sputtering[J].Journal of The Central University for Nationalities(Natural Sciences Edition),2006,15(4):325-329,338. |
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| Authors: | LI Li-wei QIU Hong-mei ZHAO Xue-dan XU Mei QIN Liang-qiang |
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| Institution: | Department of Physics, University of Science and Technology Beijing. Beijing 100083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | reduction-reactive sputtering magnetite thin films Verwey transition magnetic property |
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