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N沟硅栅集成开关电容滤波器设计分析
引用本文:赖宗声,孙克治,刘亿,翟玉宝.N沟硅栅集成开关电容滤波器设计分析[J].上海师范大学学报(自然科学版),1988(1).
作者姓名:赖宗声  孙克治  刘亿  翟玉宝
作者单位:华东师范大学电子科学技术系,华东师范大学电子科学技术系,华东师范大学电子科学技术系,上海无线电十四厂 主任工程师
摘    要:本文给出了低通、带通、带阻型 MOS 开关电容滤波器单片 IC 电路设计方法。并用通用电路分析程序进行了模拟分析。本文还提出了一种新型双层多晶 N 沟硅栅 E/DMOS 工艺,它能使电路设计有很大灵活性和高集成度。测试结果表明这种电路具有输出电压幅度大(≥14V_(P-P))、通带平坦、纹波小(≤0.1~0.2dB)、动态范围大(≥75dB)之特点。

关 键 词:半导体    MOS器件  模拟集成电路

A Designing Analysis of the N-Channel Polysilicon Integrated SCF
LAI ZONGSHENG SUN KEZHI LIU YI ZHAI YUBAO.A Designing Analysis of the N-Channel Polysilicon Integrated SCF[J].Journal of Shanghai Normal University(Natural Sciences),1988(1).
Authors:LAI ZONGSHENG SUN KEZHI LIU YI ZHAI YUBAO
Institution:Department of Electronics Science and technology
Abstract:
Keywords:semiconductor  silicon  MOS device  analog integraited  circuit
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