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1.
2.
丙酸盐对厌氧氨氧化除氮性能及群落结构的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
为了探究有机碳对厌氧氨氧化的长期影响, 向厌氧氨氧化膜生物反应器中添加不同浓度的丙酸钠, 研究对反应器的除氮效能以及微生物的种群结构和功能变化。结果表明: 反应器主要的脱氮过程由CandidatusBrocadia完成, 当丙酸钠浓度为100 mg/L时, 反应器中由于异养细菌的生长, 可实现碳氮的同步去除, 平均总氮去除率可达91.9%。当丙酸钠浓度为200 mg/L 时, 对Candidatus Brocadia的抑制作用导致反应器除氮性能下降, Candidatus Brocadia的丰度降至41.2%, 总氮去除率降至 78.8%。在有机碳抑制作用解除后, 反应器的除氮性能恢复为86.8%, Candidatus Brocadia丰度增加到54.0%, 但群落多样性下降, 属水平的微生物组成有较大的改变。 相似文献
3.
合成一些新的有机磷化物,组成为(ArO)PhP(s)Y(Y=Cl、NCS).测定了mP、IR、HNMR并进行了元素分析.Ia的除草活性尚好. 相似文献
4.
提出了一种型钢混凝土柱正截面承载力计算方法.与我国工程技术人员主要采用的日本叠加计算方法相比,此方法具有计算简单,节约材料,适应性强等特点,其计算结果与理论值很接近. 相似文献
5.
苏州瑞红电子化学品有限公司:集成电路用正性光刻胶 由苏州电子材料厂与日本瑞翁和日本丸红公司合资成立的苏州瑞红电子化学品有限公司,成功研发出集成电路用正性光刻胶产品,并迅速形成产业.瑞红公司生产的集成电路用正性光刻胶,具有超高感度、高粘附性以及工艺宽容度大等显著特点,不仅填补了国内空白,还抑制了国外进口材料价格上升的趋势.目前,瑞红公司已成为我国微电子化学材料最大规模的专业生产企业,也是国内惟一能同时生产集成电路用光刻胶、液晶显示用光刻胶两种重点产品的企业,并占据了这两种产品50%以上的市场份额. 相似文献
6.
研究了一个带有垂直传染、具有年龄结构的接种SIS流行病模型,得到了正平衡解存在性的充分条件。 相似文献
7.
8.
周跃进 《安徽理工大学学报(自然科学版)》2008,28(4)
对多个处理且试验结果为多档次的临床试验,构建了其概率罐子模型。研究了模型中每个处理试验结果发生的概率。利用极大似然估计方法得到其估计量,并获得此估计量具有渐近正态性。 相似文献
9.
本文发展了一种重正化群方法,精确而系统地研究包含周期和非周期格子的一维体系的物理性质.该一体系的构造序列是选A、B两块并按膨胀规则{A、B}→{A~(m11)B~(m12),A~(m12)B~(m22)}排列成的.作为特例,计算了(M_(11),M_(12),M_(21),M_(22))=(1,1,1,0)(1,1,1,1)(1,2,1,1)和(2,1,1,1)几种一维格子的电子带谱和态密度,结果表明,较之其他方法,该方法具有系统性,而且分析结果与其他类似。 相似文献
10.