全文获取类型
收费全文 | 130篇 |
免费 | 6篇 |
国内免费 | 11篇 |
专业分类
系统科学 | 1篇 |
丛书文集 | 2篇 |
综合类 | 144篇 |
出版年
2023年 | 1篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 1篇 |
2017年 | 4篇 |
2015年 | 5篇 |
2014年 | 4篇 |
2013年 | 2篇 |
2012年 | 5篇 |
2011年 | 12篇 |
2010年 | 7篇 |
2009年 | 6篇 |
2008年 | 4篇 |
2007年 | 6篇 |
2006年 | 8篇 |
2005年 | 6篇 |
2004年 | 6篇 |
2003年 | 3篇 |
2002年 | 3篇 |
2001年 | 7篇 |
2000年 | 3篇 |
1999年 | 4篇 |
1998年 | 2篇 |
1997年 | 6篇 |
1996年 | 5篇 |
1995年 | 4篇 |
1994年 | 3篇 |
1993年 | 2篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 6篇 |
1990年 | 6篇 |
1989年 | 3篇 |
1988年 | 5篇 |
1987年 | 2篇 |
1986年 | 1篇 |
排序方式: 共有147条查询结果,搜索用时 125 毫秒
1.
本文采用线性扫描法测定未知掺杂MOS结构少子产生寿命空间分布,结果表明,本方法是简单准确的。 相似文献
2.
图像质量评价是图像工程的重要内容之一,在图像通信过程中起着举足轻重的作用。评价方法一般来说可分为客观质量评价方法和主观评价方法。文中分析了传统的MSE和MOS图像质量评价方法及其一些缺点,在分析图像信息和相关性理论基础之上,通过对基于结构失真的图像质量评价方法的深入分析,提出了一种对结构失真评价方法进行改进的图像质量评价方法,实验证明所提出的改进方法与人的主观视觉质量具有一致性。 相似文献
3.
分析了高压栅极驱动集成电路热耗散产生的原因和隔离技术的特点,研制出一种新型的700VBCD工艺栅驱动集成电路.通过减小LDMOS电流和开启时间降低芯片高速工作时的发热量,配合电路设计调整了BCD工艺,解决了高功耗和地线浮动等制约其发展和应用的难题.仿真和测试结果表明,该集成电路工作在1MHz,400V时,总功耗仅为0.4W. 相似文献
4.
本文利用金相、X光和电子显微镜等技术,对国产和进口低压电容器用铝箔的成分和组织结构等进行了对比分析。通过对铝箔直流腐蚀形貌的观察,研究了提高铝箔比电容的机理。成功地开发了一种新型国产电容铝箔,经工厂实际生产应用证明,各种技术指标均达到进口电容铝箔的水平,能取代进口箔,具有巨大的社会效益和经济效益。 相似文献
5.
赵玉山 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》1991,(1):51-56
提出多输入端运算跨导放大器的两种CMOS电路结构。对结构特点和设计原则作了对比分析;对设计实例电路提供了SPICE程序模拟结果。 相似文献
6.
奚柏清 《南京邮电大学学报(自然科学版)》1991,(4)
本文首先介绍用MOS场效应管、电容和运算放大器构成的新型GIC、模拟电感、FDNR、FDNC等有源元件电路,这些电路以著名的Riordan电路为基础,采用4个匹配的MOSFET结构达到传输特性的线性化。其次,对梯形RLC低通原型进行RLC-CRD变换,并运用嵌入法构成新型的全集成连续时间低通滤波器。 相似文献
7.
MOS器件的热载流子效应 总被引:1,自引:0,他引:1
热载流子效应产生的原因,首先是在沟道强电场中形成迁移率偏低的热载流子,然后由于碰撞电离而使热载流子大量增加。热电子和热空穴能够越过界面势垒向栅氧化层发射。进入栅氧化层的热载流子,或者穿透氧化层,或者造成随时间而增加的界面态,或者造成载流子陷阱。热电子或热空穴也可以受结电场的作用而进入衬底。抑制热载流子效应的方向,一是在沟道两侧制作轻掺杂区,以降低沟道电场强度;二是对栅氧化层进行氮化处理和提高氧化温度,以改善氧化层的质量,增强抗热载流子效应的能力。 相似文献
8.
低压无功补偿方式的探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
林培玲 《科技情报开发与经济》2007,17(4):289-290
分析了无功补偿的意义,阐述了无功补偿的原理,介绍了并联电容器进行无功补偿的方法、适用范围及接线方式。 相似文献
9.
10.
介绍了一种新型功率集成光激MOS控制多路开关,它由双向晶闸管,MOS器件,光电器件组成。此开关通过光电转换来实现强电与弱电之间的隔离,可工作在交流状态,其通态压降低,约在1.5-3V之间,并对其阻断特性,电流特性,开关特性进行了全面的模糊分析,此开关适用于开发各种电源开关产品。 相似文献