磁控弧光增强等离子体CVD(化学气相沉积)法制备立方氮化硼薄膜

采用一种新的自行设计的磁控弧光增强等离子体化学气相沉积法制备立方氮化硼(c-BN)薄膜.现已成功地在单晶硅上制备出了含量较高的立方氮化硼(c-BN)薄膜.制备出的薄膜用傅立叶红外(FTIR)光谱和X射线衍射(XRD)谱来表征.同时研究了各个沉积参数(基底直流负偏压、弧光等离子体放电电流、气体流量比)对立方氮化硼薄膜制备的影响.     

物理演示实验室的综合应用

本文以讨论物理演示实验室的综合应用为线索,论证了物理演示实验室开展综合应用的必要性,并就我校近年来物理演示实验室的建设和应用情况做了简要介绍.     

筛分式颜料压力测试系统的应用研究

应用工控机成功研制出颜料压力测试系统。该系统用工控机（IPC）作控制计算机,用组态软件作为实时测控软件,对不同成分配比的颜料的压力性能进行了实时监测,得到了不同配比的颜料压力曲线,为颜料的工程应用打下了理论基础。该测试系统具有操作简便、实时性好、可靠性高等特点。