首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2篇
  免费   0篇
综合类   2篇
  1999年   1篇
  1997年   1篇
排序方式: 共有2条查询结果,搜索用时 0 毫秒
1
1.
双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制   总被引:3,自引:2,他引:3  
采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪,通过六方氮化硼(h-BN)和Ti靶反应溅射制备Ti-B-N复合薄膜,并用AES、XRD和TEM等方法研究了薄膜的微结构.结果表明,室温下沉积薄膜均呈非晶态,经过400°C热处理薄膜晶化.基片加热为400°C沉积的薄膜则已晶化,TEM分析确定薄膜结构为TiN结构.显微硬度表征发现,室温沉积Ti与h-BN的原子数约为2∶1时的薄膜达到最高硬度HK2600.  相似文献   
2.
TiN/AlN纳米多层膜的制备及力学性能   总被引:6,自引:1,他引:5  
采用多靶反应磁控溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD、TEM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明,反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰;薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加,硬度在Λ=2nm时达到最大值HK32.93GPa.  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号