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研究了ADP晶片的截面大小,表面状况和转动方式以及溶液的过饱和度等因素对“成锥” 过程的影响。初步得出了在晶片边界完整性较好和采用定时换向的条件下,溶液的过饱和度略高 一些对“成锥”比较有利。对深液的pH值和晶体的转动方式对晶体成长的影响也进行了初步探 讨。另一方面比较详细地研究了晶体在培养器中的取向对ADP晶面生长速率和晶体生长习性的 影响,初步确定了维持晶体匀称生长较好的空间取向。最后对上述ADP晶体培养的一些规律提 出了初步讨论。  相似文献   
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颜明山 《科学通报》1988,33(14):1053-1053
一、引言 最近,由于高功率激光系统需要高光学质量的KDP晶体作为激光倍频材料,国际上对KDP晶体又进行了不少的研究。对KDP晶体光学性能的要求主要有两方面:一是晶体的光损伤阈值要高;二是晶体的光吸收和散射要小。我们从降低杂质的浓度和减少晶体的位错入手,研究了KDP晶体的生长工艺和溶液状态,从而生长出光学性能优异的KDP大单晶。  相似文献   
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