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1.
TiAlN薄膜的磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积制备的研究
梁昌林
程国安
郑瑞廷
韩东艳
《北京师范大学学报(自然科学版)》
2011,47(3):249-253
采用磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术,在室温、钛合金和Si(100)单晶表面制备了TiAlN薄膜.利用SEM、XRD、EDS和XPS等对薄膜的微观组织结构及化学组分进行了观察测试分析,探讨了磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术的工艺参数对TiAlN薄膜结构的影响.
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