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为了研究低温等离子体对荞麦的杀菌效果,确定最佳杀菌工艺参数,以甜荞麦为原料,
在单因素试验基础上,以处理时间和电压为因素,杀菌量和色差ΔE为评价指标,进行响应面中心
组合试验,分析因子间交互作用,建立荞麦杀菌量和色差的回归模型。利用遗传算法进行综合优
化,得出最佳杀菌工艺参数。结果表明低温等离子体对荞麦杀菌的最佳工艺参数为处理电压
54 kV,处理时间 48 min。在该条件下,菌落总数为 2.64 lg(CFU/g),色差 ΔE 为 1.83,多酚含量为
26.22 mg/g。低温等离子体技术可用于荞麦杀菌。 相似文献
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