慢正电子技术研究ZrO2（Y2O3）薄膜的温度效应

用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压，纯Ａｒ气氛，基片分别为加热３００℃和不加热的情况下制备的Ｎｏ．２系列和Ｎｏ．７系列的用Ｙ２Ｏ３稳定的ＺｒＯ２薄膜（简称ＹＳＺ膜）。研究发现：ＹＳＺ膜心部区Ｓ参数随退火温度升高而降低；ＹＳＺ膜的过渡区宽度随退火温度升高而变窄；基片加热，有助于获得稳定、均匀、致密的薄膜组织。     

我国正电子湮没技术研究的现状与展望

本文在论述正电子湮没技术的基本原理、实验方法及其应用领域的基础上,评介了目前国外正电子湮没技术的研究动态、发展趋势和我国正电子湮没技术研究的现状。为了开创我国正电子湮没技术的新局面,作者提出了一些有意义的设想。     

Chirped Bragg光纤光栅色散补偿研究

分析Ｃｈｉｐｅｄ Ｂｒａｇｇ光纤光栅的色散特性，并作一定性分析。利用耦合模方程导出Ｃｈｉｒｐｅｄ Ｂｒａｇｇ光纤光栅的反射率方程，从而推导出Ｃｈｉｒｐｅｄ Ｂｒａｇｇ光纤光栅的色散计算公式，并用数值分析画出它们的响应曲线。     

S异步恒延伸轧制产品B_2F钢的正电子湮没研究

本文用正电子湮没技术研究了PV-E轧制产品B_2F钢,测得了正电子寿命与轧制压力及机械性能间的对应关系,为PV-E轧制工艺提供了依据。实验表明,轧制过程中B_2F钢中存在大量位错和空位团缺陷,且正电子寿命与速比有一定对应关系,揭示了速比对机械性能的影响。     

The Analysis and Research of Chirped Bragg Fiber Grating Theory on Dispersion Compensation

Based on the general theory of linear Chirped Bragg fiber grating, this paper discusses some parameters including different chirped values and quasi-gauss coupling function relating with the reflectivity coefficient dispersion compensation. The result shows that selecting larger chirped value and appropriate qusi-guass coupling function can improve the dispersion compensation while ensuring high reflectivity. The concept of “figure of merit“ in the microwave field is introduced to quantize the equalizing power of the dispersion compensator.     

慢正电子技术研究ZrO2(Y2O3)薄膜的温度效应

用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,纯 Ar气氛 ,基片分别为加热 3 0 0℃和不加热的情况下制备的 No.2系列和 No.7系列的用 Y2 O3稳定的 Zr O2 薄膜 (简称 YSZ膜 ) .研究发现 :YSZ膜心部区 S参数随退火温度升高而降低 ;YSZ膜的过渡区宽度随退火温度升高而变窄 ;基片加热 ,有助于获得稳定、均匀、致密的薄膜组织     

同步轧制与异步轧制B_3F钢的正电子寿命研究

本文用正电子湮没技术研究了同步轧制与异步轧制B_3F钢的机械性能;说明了异步轧制可以减小轧制力,提高机械性能;发现了样品的抗拉强度与正电子寿命之间存在着一定的关系.