氧化物辅助合成纳米硅线的研究

2002年8月15日～2003年8月15日，我被山东大学派往香港城市大学物理与材料科学系金刚石与超级薄膜中心(COSDAF)进行了为期1年的合作研究。主要从事氧化物辅助合成纳米硅线的生长机理的理论研究工作。     

电子——电子相互作用和Hubbard模型

采用屏蔽库仑势形式,通过计算—维体系中电子——电子相互作用的U,V,W,X 各项值,分析了Hubbard 模型、KSSH 模型等的不足,并给出它们适用范围的参考标准。