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利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石,合成十二烷基胺/高岭石插层复合物.并运用XRD、FT-IR、TG、DSC等技术表征反应过程和产物特征.经十二烷基胺插层后,高岭石的doo1值由0.717 nm增加为2.280 nm,层间距增加1.563 nm,插层率为70％；十二烷基胺以NH基团与高岭石四面体Si-O基形成氢键；高岭石/十二烷基胺插层复合物在215℃以下是稳定的.  相似文献   
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