贝伐珠单抗治疗糖尿病性黄斑水肿的疗效观察

目的:评价玻璃体腔内注射贝伐珠单抗治疗糖尿病性黄斑水肿的临床效果与安全性。方法:对接受玻璃体腔注射Bevacizumab(1.75 mg)治疗的20例(26眼)糖尿病性黄斑水肿患者进行回顾性分析,对比分析治疗前后1、2、3、6月最佳矫正视力、眼压、黄斑中心凹厚度变化。对所有病例进行6月以上的随访观察。结果:在20例(26眼)患者中平均年龄(57±18.56)岁。治疗前患者的基线平均对数BCVA为(log MAR 0.82±0.63),CFT为(624.2±176.1)μm,注药后1周CFT没有显著改善,但BCVA有显著提高,经平均随访9.8 mo,BCVA,CFT均较基线有显著改善,差异有统计学意义(P<0.01)。终末随访时BCVA提高≥两行有22眼(84.6%),稳定2眼(7.7%)。本组患者共接受了92次玻璃体腔内注射,平均每眼注射次数为(3.98±1.52)次。结论:玻璃体腔内注射bevacizumab可明显改善糖尿病黄斑水肿患者的视力,减轻黄斑水肿,减少CNV渗漏,重复治疗效果更佳。但远期疗效尚须进一步观察。     

提高电力系统小干扰稳定性的全状态H_∞控制器

为了研究电力系统小干扰稳定分析和控制的有效方法,建立了多机系统小干扰稳定的鲁棒分析和控制模型,应用H∞理论分析多机系统小干扰稳定问题,提出用系统的H∞范数作为系统小干扰稳定裕度的指标,并提出了多机系统全状态H∞控制器的设计方法。对一个4机2区域测试系统进行了仿真,设计了该系统的全状态H∞控制器,并从系统的特征值和振荡模式的阻尼比、系统广义阻尼和系统H∞范数等方面评估和比较手动励磁控制、线性最优控制和H∞控制的综合性能。结果表明,系统H∞范数能够准确衡量系统小干扰稳定裕度,而全状态H∞控制器比现有的控制技术能够为系统提供更强的阻尼,提高系统的小干扰稳定性。     

大理地区学龄前儿童眼外伤27例临床分析

目的:通过对学龄前儿童眼外伤的分析,提出有效的预防措施.方法:对2012年1月至2014年4月间收治的27例学龄前儿童眼外伤发生的年龄、性别、事故地点、事故原因、受伤性质、预后进行回顾性分析.结果:儿童眼外伤男童多于女童,受伤地点家中多见,并随年龄增加发病率逐渐增加,5岁起达到发病高峰,预后与受伤评分有关.结论:加强儿童眼外伤的预防宣传,可降低儿童眼外伤发生的风险,以有效减少和控制低视力儿童.     

基于FPGA的数字化电涡流位移传感器设计

电涡流位移传感器的载波信号和解调信号均为模拟处理信号,其测量和解调电路均会提高硬件电路复杂性和信号的不稳定性,并增大磁轴承系统的总体设计体积和功耗等。针对这一问题,该文设计了以调幅式电涡流位移传感器为基础的数字化电涡流位移传感器。利用现场可编程门阵列(FPGA)的数字输出信号设计传感器的载波信号,通过FPGA的软件设计对测量电路的输出信号进行数字化处理。该设计在有效降低电路设计复杂性和功耗的同时,提高了传感器测量的可靠性和精确性。     

23G微创玻璃体切割术在玻璃体视网膜疾病中的应用

目的:探讨23G经结膜无缝合玻璃体切割系统在玻璃体视网膜疾病中的应用,观察其疗效以及并发症情况。方法:回顾性分析2011年10月至2013年10月行23G玻璃体切割术的患者46例(48眼)。其中,特发性黄斑裂孔8眼(16.7%),特发性黄斑前膜5眼(10.4%),玻璃体积血19眼(39.5%),糖尿病视网膜病变V-VI期8眼(16.7%),孔源性视网膜脱离8眼(16.7%)。分别观察缝合组和未缝合组手术前和手术后1d、7d、1个月眼压变化情况、手术效果、时间、最佳矫正视力及术中、术后并发症等。术后随访1~12个月。结果:所有病例均顺利完成手术,巩膜切口缝合组和未缝合组间术后1d、7d、1个月眼压差异均无统计学意义(P0.05);术后最佳矫正视力均有不同程度提高,与术前比较差异有统计学意义(P0.01)。手术时间70.12±7.86 min;术后眼部刺激症状轻微,术后并发症少见。术中2眼套管滑脱,5眼结膜下轻微出血,3眼结膜下气泡,所有病例在随访期间无严重并发症发生。结论:23G玻璃体切割术具有微创、手术时间短等优点,术后恢复快,疗效好,并发症少,将其应用于治疗玻璃体视网膜病变是一种安全有效的微创手术方法。     

提高电力系统小干扰稳定性的全状态H_∞控制器

为了研究电力系统小干扰稳定分析和控制的有效方法,建立了多机系统小干扰稳定的鲁棒分析和控制模型,应用H∞理论分析多机系统小干扰稳定问题,提出用系统的H∞范数作为系统小干扰稳定裕度的指标,并提出了多机系统全状态H∞控制器的设计方法。对一个4机2区域测试系统进行了仿真,设计了该系统的全状态H∞控制器,并从系统的特征值和振荡模式的阻尼比、系统广义阻尼和系统H∞范数等方面评估和比较手动励磁控制、线性最优控制和H∞控制的综合性能。结果表明,系统H∞范数能够准确衡量系统小干扰稳定裕度,而全状态H∞控制器比现有的控制技术能够为系统提供更强的阻尼,提高系统的小干扰稳定性。