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用扫描电子显微镜(SEM)观察了循环应变作用下(135)同轴非对称铜双晶体中的位错结构。结果表明,双晶晶界领域的位错结构特征不同于远离晶界的区域,一是低应变幅下晶界旁有低密度位错区的形成,二是驻留滑移带结构接近晶界时发生畸变。 相似文献
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用透射电子显微镜研究了3种Cu双晶循环形变饱和位错结构,双晶标记为「135」/「135」,「235」/「235」以及「345」/「117」/。观察表明,双晶的饱和位错结构和其循环应力应变响应一致。。在「135」/「135」,「235」/「235」平行晶界双晶循环应力-应变曲线平台区,饱和位错结构基本上由驻留滑移 梯状结构和基体的脉络结构组成。 相似文献
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用透射电子显微镜(TEM)研究了受循环应变载荷作用的Cu双晶中的迷宫形态位错结构。实验表明,迷宫位错结构由两组相互垂直的(001)和(210)位错墙组成。其形成不仅与外加应变幅有关,而且取决于晶体中开动的滑移系统,与一组互相垂直的Burgers矢量的位错密切相关。 相似文献
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